品名:   聚焦離子束光罩修補設備
     
型號:   SIR7 Mask Repair Tool
     
概要:   利用聚焦離子束對半導體用光罩或者線路上缺陷部分進行修復的裝置.可以對應65nm製程新世代Binary和Half tone mask上的微小缺陷以及複雜形狀的缺陷進行高精度和低損傷的修復。
     
特點:   1. 修正精確度從原來的15nm(3&sigma)提升到10nm(3&sigma),採用新型的離子束光學系統,提高了離子束的穩定性。同時聚焦更好的離子束,可以對微小的缺陷的形狀和細節進行觀察。能夠對觀察到的缺陷真實的掃描並修正。而且樣品室搭載了溫度調控系統,減少溫差變化,從而降低因溫度導致的離子漂移。

2. 從被用在半導體設計圖檔的EB圖形資料中擷取缺陷部分原有正常的圖形,利用與缺陷部分對照,可以修復到近似正常的圖形。在修復OPC等複雜形狀的時候,能夠還原最真實的形狀。

3. 採用曝光機等級的SMIF傳輸設備。利用SMIF Pod,能在高潔淨度的傳輸設備中移動光罩,有效確保光罩潔淨度。

     
規格
     
型號:   SIR7 FIB
     
對應光罩尺寸:   最大7.25英寸
     
離子源:   Ga液態金屬離子源
     
加速電壓:   最大30kV
     
修正精確度誤差:   10nm(3&sigma)
     
觀察、修正使用的圖像:   二次子圖像
二次電子圖像
     
可修補最小線寬:   260nm (140nm)
     
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