PE75 Plasma Etch Model


 

概述

PE-75是美國The Plasma Etch 公司最大的入門級電漿系統,並提供目前競爭公司的產品所沒有許多功能。該系統設有一個12"直徑 X 11"深圓形鋁真空室搭配有直接式射頻電極。在所有的電漿蝕刻設計系統中,電容平行板設計是最有效的。PE-75PLC微處理器控制系統及有字母數字顯示的小鍵盤使用者界面。可以儲存一個單一自動程序的製程配方。PE-75緊湊的設計和實惠的價格,是小型量產、研發設施以及學術研究的完美電漿設備。

優點

  • 直接接觸射頻電容平行板電極用於產生均勻的電漿。
  • 搭配PLC控制器 自動化的電漿清洗機。

系統特點

  • 持久耐用的鋁製真空室
  • 内部尺寸約12"直徑 X 11"
  • 單一9" X 10"長 水平直接式接觸式電極 
  • 5.5"(最低)真空室淨高
  • 400瓦,50KHz連續可變射射頻電源
  • 2個浮子流量计,2個氣體控制器0-25cc/min
  • 精密針閥熱電偶真空計0-1Torr
  • PLC微電腦控制系统
  • 控制台外形尺寸:18" X 19" X 24"
  • 5 CFM 2階段直接傳動氧真空油泵
  • 可儲存單一製程序列

應用

  • 電漿殺菌
  • 表面處理

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