PE100 Plasma Etch Model



概述

PE-100是一個完整的系統搭配穩健和可靠的真空泵設計,且價格實惠,足以讓初創公司,醫學實驗室和研發單位有機會體驗到Plasma Etch技術。工業粉末塗層框架設計特點,以保護您的機台產品不會被污染。用電漿處理進行表面處理有高均勻性,並減少或省略不用那些昂貴的化學品及廢液。一個簡易直觀的操作界面搭配觸控螢幕來進行安全、再現性高的電漿處理過程。 

優點

  • 客制化電極配置,RIE(反應離子蝕刻)和溫度控制。
  • 全鋁製腔體 包含三層電極 製程區域超過240平方英寸。

系統特點

  • 12" X 12" X 12" 鋁焊接真空室
  • 三層面積 9" X 9" 間隔3" 的電極及框架
  • 300@100KHz 射頻產生器
  • 0-50cc流量控制器
  • Pirini真空計。
  • 微處理器控制系統搭配觸控螢幕,可儲存製程程序
  • 8 CFM氧真空泵
  • 8 CFM氧真空泵除霧器

選購配件

  • 300@13.56 MHz 射頻產生器
  • 靜電屏敝
  • 製程溫度控制
  • 客制化電極配置
  • RIE(反應離子蝕刻)電極
  • 真空泵氮或CDA清潔

應用

  • 電漿殺菌
  • 表面處理
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