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PE2000R Plasma Etch Model


概述

PE2000R基於Plasma Etch MK-II架構發展,有著MK-II相同的高重複性,可靠性和長使用壽命,以及低維護成本。反應離子蝕刻電極提供了最好方向性電漿蝕刻效果。我們的卷對卷電漿蝕刻機的大型鋁腔可容大尺寸的捲軸, PE-2000R卷對卷電漿系統有大尺寸處理面積以因應連續軟性基板和卷裝材料。PE-2000R系統可以可容納寬度2"24"主軸直徑10"捲筒。

優點

我們的標準真空泵特別適用於氧氣處理。它配備了一個氮氣清潔系統,防止任何腐蝕發生進而延長了使用壽命進而降低了維護週期。PE-2000R在處理無論是不同尺寸或不同材料 如聚四氟乙烯,聚酰胺的電路板,你會發現,都會有均勻蝕刻及良好清潔結果可以進入下一道製程。觸控螢幕搭配簡易直觀使用界面可以控制電漿製程每個細節以確保製程可靠性和可重複性。PE-2000R卷到卷電漿系統可用於一般材料的電漿捲軸,傳輸系統並有制動控制,張力控制和速度控制等功能。二個電腦作業系統進行等電漿控制及操作及控制傳輸參數。該系統佔地面積將依據不同配置而有所不同。

系統特點

  • 水平RIE(反應離子蝕刻)電極
  • 水平72"平面電極
  • 3000瓦射頻產生器搭配自動匹配網絡
  • 專利的製程溫度控制125°F300°F
  • 2通道0-2000毫升/分鐘流量控制器
  • 4個通道低氣壓報警
  • 真空計
  • 微系統控制搭配觸控螢幕控制/可儲存多個序列設定
  • 59 CFM氧真空泵
  • 355 CFM真空泵增壓風機
  • 真空泵3微米油過濾器
  • 真空泵自動氮氣清潔 可控制氮氣清潔速度
  • 油霧消除器
  • 開環張力控制馬達與粒子離合器
  • 閉環速度控制磁流真空饋通
  • 手動設定或自動控制 長度,速度,張力

選購配件

  • 電腦控制系統搭配觸控螢幕 數據報告,事件查看,列印
  • Signal Tower
  • 79/355 CFM乾式真空泵
  • 風門真空控制器
  • 4個通道流量控制器
  • 客制化腔體和電極

應用

  • 表面處理
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