半導體製造及封裝 > 設備 > 乾式光罩清潔機 > Nuventy > VEGA雷射光光罩清潔機
 
   
  Vega ®雷射光波光罩清洗系統以不同於以往濕式化學表面微粒清除製程中缺點的乾式光罩清潔技術,對光罩整體良率的改善提供新的解決方案。這種創新的系統採用了高速衝擊波撞出顆粒表面的光罩表面。

由於 VEGA ®系統不使用化學物,因此光罩表面不會有因為濕式化學清洗技術帶來的表面刮痕與蝕刻痕跡,也不會有水氣附漬、化學反應與表面化學改質作用等效應。
   
  前驅物的製作程序為 1.氮氣噴掃先驅物 2. 氮氣再次噴掃導致形成沉積單原子層。活化ALD沉積晶體數目將決定 ALD沉積層厚度。

這種結合相對大流量噴掃氣體,以及基板與氣體分離阻塊微小間距作用使得前驅物的分離非常有效率。前驅物的混合將會導致 CVD物質的生長。

獨特的ALD晶體沉積技術設計甚至可做到單面 ALD生長,就如同一邊氣體軌道只有氮氣運行。因為 ALD沉積晶體作用是可以基板快速線性移動進行優化,以提高生產輸出速率。
   
優點
   
  ● 在改善清潔效率當時,也降低化學品消耗和清廢處置成本
● 清潔時預防金屬汙染腐蝕
● 極小化降低EUV光罩在鉻膜、石英與相位移Mo-Si膜的光穿透率改變
● 杜絕以往清潔技術中微粒再沉積作用的問題
● 雷射衝擊波是可在微細敏感結構中使用的,這是以往化學作用與超音波無法應用的領域
● 單點清潔能力提高生產量
● 縮短製程時間
   
FEATURES特點
   
  ● 單一光罩清洗製程
● 次微米級微力去除無須任何化學品
● 無損壞式非接觸式雷射光清潔
● SMIF全自動載入/載出
● 直覺式操作界面與使用者定義配法
● 缺陷位址輸入
● 可以點,線,和完整光罩方式選擇清潔模式
● 以邊框光罩方式承載
● SEMI S2/S8可兼容
   
應用
   
  ● 先進光罩和EUVL光罩缺陷去除
● 修補後清潔
   
Copyright 2013© by LeadinWay Co.. Ltd. All Rights Reserved .
主要辦公處:台灣-新竹,台南市 中國大陸-上海,東莞
地址: 30268 新竹縣竹北市縣政五街46號|電話:+886-3-6560883|傳真: +886-3-6564486