ElectroScrub Series:
  Wet Clean Particle Remover, an advanced particle and defect removal solution
where particles can be removed even without applying mechanical force
   
  ElectroScrub具有非常良好的去除微粒能力的清潔液,主要分為兩種系列:
ElectroScrub1 與ElectroScrub2.

1 - ElectroScrub1, 酸鹼值pH = 9-10,廣泛用在晶圓表面清洗製程。
2 - ElectroScrub2 是以ElectroScrub1為基礎,增加了清潔用之研磨振盪介質。

此一介質可有效協助去除在晶圓表面附著的微粒。
ElectroScrub微粒去除溶液是一個全新的方式,有效發揮靜電電荷力作用以去除晶圓表面之微粒。早期應用在對微粒限制條件要求嚴苛的硬碟產業清潔製程,如今在先進晶圓清潔製程上也成功的發揮效用。

(1)Electroscrub1 是系列微粒清潔溶液的基礎,酸鹼值約在pH 9.5。
(2)Electroscrub2 則增加了清潔研磨振盪介質,有效提升去除微粒效率。
(3)以上二種系列皆可因製程需要,客戶可適時設定不同酸鹼值之配方如 pH12~14等溶液。
   
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