Electro Scrub
Electro Scrub 清潔化學液
型號:
Electro Scrub Technology. Inc 是一家生產提供IC半導體工業先進晶圓清潔製程中,所需獨家解決方案的化學品公司。Electro Scrub Technology. Inc系列產品不僅與現有之市場產品方案內容不同,更是提供目前半導體工業製程中面臨先進清潔問題時給予全新的解決方案。Electro Scrub Technology. Inc強調所提供的是目前市場上所無法提供的產品方案。Electro Scrub Technology. Inc並不是具有提供廣泛產品的規模,但卻可專注針對半導體工業客戶在面臨急迫性問題而無人可適當解答時,給予產品上的協助方案。
Electro Scrub Technology. Inc專注在如先進半導體製程之底層清潔、接觸孔蝕刻,與先進清潔製程中目前所遭遇挑戰的製程步驟,ElectroScrub提供更好的微粒去除且無機械力破壞效應的製程產品。EBR不僅提供晶圓邊光阻去除的解決方案,同時也可以去除晶圓邊的微粒與多餘光阻。此對浸潤式曝光機的EBR步驟提供一個更加的改善方案。同時,Electro Scrub Technology. Inc也提供了先進光罩同時可去除光阻與底部抗反射層(BARC)製程的清潔產品。
Electro Scrub Technology. Inc的品質部門在每批產品出貨前,都會進行完整的檢測工作。確保包裝部門是在安全與潔淨的環境條件下進行。所有的產品溶液在裝入高密度PP/PE容器前,也都會進行微粒過濾的工作以確保產品品質。
Electro Scrub Technology. Inc專注在如先進半導體製程之底層清潔、接觸孔蝕刻,與先進清潔製程中目前所遭遇挑戰的製程步驟,ElectroScrub提供更好的微粒去除且無機械力破壞效應的製程產品。EBR不僅提供晶圓邊光阻去除的解決方案,同時也可以去除晶圓邊的微粒與多餘光阻。此對浸潤式曝光機的EBR步驟提供一個更加的改善方案。同時,Electro Scrub Technology. Inc也提供了先進光罩同時可去除光阻與底部抗反射層(BARC)製程的清潔產品。
Electro Scrub Technology. Inc的品質部門在每批產品出貨前,都會進行完整的檢測工作。確保包裝部門是在安全與潔淨的環境條件下進行。所有的產品溶液在裝入高密度PP/PE容器前,也都會進行微粒過濾的工作以確保產品品質。
ElectroScrub Series:
Wet Clean Particle Remover, an advanced particle and defect removal solution
where particles can be removed even without applying mechanical force
ElectroScrub具有非常良好的去除微粒能力的清潔液,主要分為兩種系列:
ElectroScrub1 與ElectroScrub2.
1 - ElectroScrub1, 酸鹼值pH = 9-10,廣泛用在晶圓表面清洗製程。
2 - ElectroScrub2 是以ElectroScrub1為基礎,增加了清潔用之研磨振盪介質。
此一介質可有效協助去除在晶圓表面附著的微粒。
ElectroScrub微粒去除溶液是一個全新的方式,有效發揮靜電電荷力作用以去除晶圓表面之微粒。早期應用在對微粒限制條件要求嚴苛的硬碟產業清潔製程,如今在先進晶圓清潔製程上也成功的發揮效用。
(1)Electroscrub1 是系列微粒清潔溶液的基礎,酸鹼值約在pH 9.5。
(2)Electroscrub2 則增加了清潔研磨振盪介質,有效提升去除微粒效率。
(3)以上二種系列皆可因製程需要,客戶可適時設定不同酸鹼值之配方如 pH12~14等溶液。