利用聚焦離子束對半導體用光罩線路上的缺陷部分進行修復的裝置,其特點如下:
1. 採用新型的離子束光學系統,可以執行更細微缺陷部分的觀察和修補。
2. 修補精確度達到15nm(3 Sigma),可以做到高精準度的修正。
3. 新的離子束控制功能,相對於舊機型可以提升超過30%的產能。
4. 全新設計的電子控制系統讓機台更加穩定。