Levitech 快速昇溫製程 RTP
Levitech Levitor RTP
型號:
Levitor RTP系統是以獨特的快速熱傳導概念，而不是傳統的熱輻射模式。熱能是儲存在兩個大型平板中，而晶圓則以近接方式置於其間。當平板和晶圓之間以一層非常薄的氣體予以分離，而能量轉移由平板透過薄層氣體到晶圓，是非常迅速且高效率的。
元件，圖案，薄膜等各自獨立透過氣體熱傳導方式進行：
● 無圖案效果
● 無需去除背層薄膜
● 加熱 SOI晶圓和大批晶圓不會有變形和破損問題
低溫能力：
● 200°C以下的生產重現性與可靠性好
價值：
● 高生產輸出量，超過 60 wfrs /小時，每腔室
● 消耗品和備件成本最低化，無須熱照射器，不需旋轉
● 設置和測試晶圓數量最少
● 最小的設備空間
● 最節能（穩態 <6千瓦；峰值<20千瓦）
易於使用：
● 製程記錄快速且方便調整
● 機台間校正可靠且快速
● 對相同目標溫度有相同設定，不需照射器校正表或調整軟體
● 加熱和冷卻同樣快速，可重複和內在均勻性一致
● 無超調，簡單的溫度控制，保證最佳重現性<1°C
● 加熱過程中零物理性接觸，保證應力效應最低化，無刮傷
產品焦點：
● 氧化
● 矽化
● RTP for LED
● 無圖案效果
● 無需去除背層薄膜
● 加熱 SOI晶圓和大批晶圓不會有變形和破損問題
低溫能力：
● 200°C以下的生產重現性與可靠性好
價值：
● 高生產輸出量，超過 60 wfrs /小時，每腔室
● 消耗品和備件成本最低化，無須熱照射器，不需旋轉
● 設置和測試晶圓數量最少
● 最小的設備空間
● 最節能（穩態 <6千瓦；峰值<20千瓦）
易於使用：
● 製程記錄快速且方便調整
● 機台間校正可靠且快速
● 對相同目標溫度有相同設定，不需照射器校正表或調整軟體
● 加熱和冷卻同樣快速，可重複和內在均勻性一致
● 無超調，簡單的溫度控制，保證最佳重現性<1°C
● 加熱過程中零物理性接觸，保證應力效應最低化，無刮傷
產品焦點：
● 氧化
● 矽化
● RTP for LED