優點

客制尺寸的水平電極,RIE(反應離子刻蝕)和半導體導線架載具。
焊鋁真空室 ,製程區域面積約500平方英寸
系統特點

焊鋁真空室:17"寬 X 17"深 X 14"高
3層水平加工電極:13"寬 X 16"深 間距: 3"
300瓦射頻產生器@13.56MHz搭配自動匹配網絡
200 SCCM流量控制器
真空計
微電腦控制系統搭配觸控螢幕可以儲存20個兩步驟配方
29 CFM O2真空泵 (選配3微米真空泵油過濾器)
選配

靜電屏蔽
製程溫度控制
600瓦射頻產生器@13.56MHz 搭配自動匹配網絡
59 CFM氧真空泵(3相)搭配自動氮氣清洗系統維持真空泵壽命
Signal Tower
MKS自動停止真空控制器
2個額外的流量控制器
軟體設定5種氣體輸入
腔體氮氣清除率控制器
真空泵排氣油霧凝聚過濾器
客制化腔體尺寸和配置
客制化電極的大小和配置
RIE(反應離子蝕刻)電極配置
應用

電漿殺菌
表面處理