能力
基材 (Substrate)

• 粉末（微米或更大的球形和粗糙）
• 納米粉末
• 擠出物
• 小物件
• 纖維

前體 (Precursor)

• 多達 8 個用於氣體和前體的入口
• 可選的分區前體源加熱
• 連續流動兼容

規格
溫度窗口：  50 – 450 °C
液體化學品入口：最多 8個
氣態化學品入口： 可根據要求提供
 
佔地面積：  88 英寸長 x 30 英寸寬 x 78 英寸高
容量： 最多 1 升粉末基材；
基板處理： 手動和/或惰性加載
改變遊戲規則的創新
化學品：氧化物、金屬、氮化物、磷酸鹽、MLD
應用：催化劑、熱填料、醫藥原料藥、電池材料、封裝
設計：  Prometheus 配備多種流化助劑，以確保顆粒充分流化以獲得均勻的塗層。振動流化床反應器和高剪切射流有助於消除粉末聚集並改善反應器中的混合。高度自動化和自動化過程監控支持高度控制的劑量。該系統配備緊急停止邏輯，使 ALD 系統能夠連續、安全和自主地運行。用戶界面也很直觀，易於使用，易於採用。Prometheus 系列是世界上最靈活的 ALD 研發工具，它的設計考慮了研究人員。它為 ALD 塗層的實時控制和原位分析提供最先進的硬件和軟件。
附加組件：臭氧發生器、RGA、流化輔助、惰性加載、集成乾泵