Forge Nano ALD (粉末鍍膜)
LITHOS | 中大型粉末鍍膜設備
型號:
商業規格的Rotary Batch 解決方案
Forge Nano 的 LITHOS Rotary Blender Reactor System 結合了旋轉顆粒處理方面的行業專業知識和 ALD 應用的高度專業性，從而形成了一個易於使用、靈活且可靠的生產系統。 LITHOS 旨在為每個顆粒提供無與倫比的厚度和一致性控制，同時最大限度地減少或消除顆粒聚集。 我們的生產機器可定制並按訂單製造，確保為每位客戶提供最佳解決方案。
Forge Nano 的 LITHOS Rotary Blender Reactor System 結合了旋轉顆粒處理方面的行業專業知識和 ALD 應用的高度專業性，從而形成了一個易於使用、靈活且可靠的生產系統。 LITHOS 旨在為每個顆粒提供無與倫比的厚度和一致性控制，同時最大限度地減少或消除顆粒聚集。 我們的生產機器可定制並按訂單製造，確保為每位客戶提供最佳解決方案。
規格
溫度窗口：50 – 200 °C
液體化學品入口：最多 4 個
氣態化學品入口：最多 4 個
佔地面積：30' L x 16' W x 14' H
容量： 多達 3,000 升粉末基材
基板處理：自動惰性加載
商業規模旋轉批量解決方案
化學物質：氧化物、氮化物
應用： 3D 打印材料、封裝、疏水塗層、電池材料、醫藥原料藥
• 製藥 • 能源材料 • 催化劑 • 粉末金屬 • 封裝 • 改性界面
設計： Forge Nano 的 LITHOS 旋轉攪拌反應器系統結合了旋轉顆粒處理的行業專業知識和對 ALD 的深刻理解，從而形成了一個易於使用、靈活且可靠的生產系統。Forge Nano 的系統旨在為每個顆粒提供無與倫比的厚度和一致性控制，同時最大限度地減少或消除顆粒聚集。我們的生產機器可定制並按訂單製造，確保為每位客戶提供最佳解決方案。
附加組件： RGA，高容量汽化
溫度窗口：50 – 200 °C
液體化學品入口：最多 4 個
氣態化學品入口：最多 4 個
佔地面積：30' L x 16' W x 14' H
容量： 多達 3,000 升粉末基材
基板處理：自動惰性加載
商業規模旋轉批量解決方案
化學物質：氧化物、氮化物
應用： 3D 打印材料、封裝、疏水塗層、電池材料、醫藥原料藥
• 製藥 • 能源材料 • 催化劑 • 粉末金屬 • 封裝 • 改性界面
設計： Forge Nano 的 LITHOS 旋轉攪拌反應器系統結合了旋轉顆粒處理的行業專業知識和對 ALD 的深刻理解，從而形成了一個易於使用、靈活且可靠的生產系統。Forge Nano 的系統旨在為每個顆粒提供無與倫比的厚度和一致性控制，同時最大限度地減少或消除顆粒聚集。我們的生產機器可定制並按訂單製造，確保為每位客戶提供最佳解決方案。
附加組件： RGA，高容量汽化