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半導體及封裝
Forge Nano ALD (粉末鍍膜)
MORPHEUS 高輸出半自動粉末鍍膜設備
Forge Nano ALD (粉末鍍膜)
MORPHEUS 高輸出半自動粉末鍍膜設備
型號:
Specifications
能力
可擴展的設計
MORPHEUS 半連續反應器系統專為大規模商業原子層沉積而設計。可針對幾乎任何應用程序或足跡進行配置和定制。只有 Forge Nano 才能使 PALD 變得如此簡單和可擴展。
規格
溫度窗口:50 – 200 °C
液體化學品入口:2
佔地面積:20' L x 12' W x 16' H
容量: 200公斤/小時
基材處理:散裝袋或氣動裝載
可擴展的、直接的解決方案
化學:
氧化物
應用:
電池材料
附加組件:
粉末裝載/卸載處理、惰性裝載/卸載