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產品介紹
半導體及封裝
Forge Nano ALD (粉末鍍膜)
CIRCE 高產出連續型粉末鍍膜設備
Forge Nano ALD (粉末鍍膜)
CIRCE 高產出連續型粉末鍍膜設備
型號:
Specifications
能力
• 交鑰匙批量生產
• 幾乎沒有活動部件
• 真正的全連續生產
• 99% 以上的產品良率
• 規模,從 100 到 4000 公斤/小時
• 大氣壓操作
規格
溫度窗口:50 – 200 °C
液體化學品入口:2
佔地面積:20' L x 12' W x 16' H
容量: 100公斤/小時
基板處理:連續
化學:
氧化物
應用:
電池材料
設計:
• 幾乎沒有移動部件 • 真正的全連續生產 • 99% 以上的產品產量 • 規模,從 100 到 4000 公斤/小時 • 大氣壓操作