高通量晶圓塗層系統
Apollo系統產品線在原子層沉積生產率和成本效益方面樹立了新的基準。我們的Semi S2 認證 Apollo 系統專為大批量半導體晶圓生產而設計，將SMFD-ALD的高生產率與革命性的簡單基板處理相結合。結果是一個靈活的模塊化系統，可以根據客戶的需求輕鬆配置。
 
表現
APOLLO 以最低的擁有成本提供具有高吞吐量性能的全自動盒到盒 ALD 工藝。APOLLO 在 ALD 生產力、性能、成本的各個方面都處於領先地位，並在降低環境影響的同時設定了新的效率標準。憑藉其“零浪費”處理，APOLLO 降低了工廠功耗並在潔淨室地板上佔用的空間更小。
能力

• 厚膜沉積（>5微米）
• ALD 循環時間短（0.4-1 秒）
• 低溫處理（低至 80 °C）
• 任何基板拓撲結構上的 100% 保形薄膜

• 納米層壓板與可重現的原子層控制的無縫結合
• 無產量損失的複合三元和四元合金薄膜

規格
溫度窗口：50 – 500 °C
液體化學品入口：最多 8 個
氣態化學品入口： 最多 4 個
 
佔地面積：66 英寸長 x 46 英寸寬 x 80 英寸高
容量： 最大200mm晶圓
基板處理：自動雙盒
一流的維護和服務
化學成分：  Al2O3、SiO2、AZO、TiO2、GaN、TiN、Bi2O3、Pt、Co、Cu、Ta205、Hf203、MLD
許多薄膜和組合薄膜的經濟高效、高生產率 ALD，包括 HfO2、ZrO2、Ta2O5、Al2O3、ZnO、ZnAlO、SiO2、HfSiO、TiO2、<300° TiN、BN、GaN、Nb3N5 等。
應用： 銅屏障、ALD-Cap、光學、粘附/播種、TCO
設計：  APOLLO 使用我們的毫秒反應 ALD 歧管，該歧管集成了 10 個我們獲得專利的快速氣動閥 (FPV)，以提供超過 1 億次無故障循環的複合材料和納米層壓 ALD 薄膜。該歧管是唯一可以在每個循環中切換成分而不會造成任何吞吐量損失的 ALD 歧管。自 2005 年以來經過現場驗證，我們的閥門在速度、可靠性、使用壽命和安全性方面創造了記錄，同時在高達 220°C 的溫度下工作。Forge Nano 的 ALD 閥門是市場上唯一的雙重密封、無溢出的 UHP 閥門。  
附加組件： 臭氧發生器、QCM、等離子