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Mesotek DLC 類鑽碳鍍膜
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型號:
PECVD 鍍膜製程
◆ Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)美國專利獨家 HOLLOW CATHODE (InnerArmor®)
◆ 利用特殊的兩極脈衝電漿,搭配化學氣體,在腔體中製造出高品質之膜層.
◆ 特殊脈衝電漿製程,腔體內之部件表面皆可均勻的鍍上膜層,不受物件形狀限制.
◆ 特殊脈衝電漿製程可提供更密緻、更厚、生成速率更快的膜層.
半導體應用
磨耗率
Mesotek PECVD Nitriding