MENU

  • 產品介紹
    • 半導體及封裝
      • RTCK-洗滌塔
      • ALPHA DESIGN - Die Bonder
      • 兆鈞光學-白光干涉儀
      • Forge Nano ALD (晶圓鍍膜)
      • Forge Nano ALD (物件鍍膜)
      • Forge Nano ALD (粉末鍍膜)
      • Fastmicro 微塵量測設備
      • AOI 膠材檢查機
      • Eshylon 暫時性靜電接合
      • HHT 光罩修補設備
      • IRAB (Reflow) Bonding 設備
      • Levitech 快速昇溫製程 RTP
      • PE 電漿清潔蝕刻設備
      • ProSys 超音波清洗
      • PSM
      • Six Point 氮化鎵晶圓
    • 電路板
      • Mesotek DLC 類鑽碳鍍膜
      • ISP X Ray 鍍層測厚分析
      • PDCS 系統
      • PE 電漿清潔蝕刻設備
    • 廠務
      • NG7 Trik Fitting 無塵室廠務配管系統
      • Des-Case 微塵水氣汙染管控
    • 電池&能源
      • Levitech 快速熱處理 (RTP)
      • Celgard 鋰電池隔離膜
    • 環安應用
      • Des-Case 微塵水氣污染管控
      • Guardian 石化品洩漏快速吸收
    • 自動化&監控
      • PDCS 監測系統
      • iTAC Software AG
    • 量測及檢測
      • ISP X RAY 鍍層測厚分析
      • AOI 膠材檢查機
    • 中古設備
      • Hitachi 膜厚儀
  • 關於我們
  • 最新消息
  • 人才招募
  • 聯絡我們
  • 服務據點
客服專線 +886-3-656-0883
搜尋
  • EN
  1. Home
  2. 產品介紹
  3. 半導體及封裝
  4. RTCK-洗滌塔
  5. Wet Scrubber HCR Series(STANDARD)
  • foto
foto
RTCK-洗滌塔

Wet Scrubber HCR Series(STANDARD)

型號:HCR STANDARD(12 Chamber)
為什麼選擇 HCR
• ESG 淨零排放: 擁有優越的 95% 去除效能,確保符合法規要求並取得 ESG 領導地位。
• 低壓降: 可降低 50% 的廠務端 (UT) 管路負載。透過低壓力損失設計與防回流功能,實現穩定的排氣控制,優化生產良率。
• 獲利最大化: 透過極小化排氣設施與工業用水 (DW) 的利用,每年可節省超過 21.1 萬美元的營運成本 (OPEX)。
• 廠房利用率最大化: 解決主管路壓力限制問題,釋放閒置產能。
分享至:
  • Specification
© 2021 緯利股份有限公司 . All Rights Reserved.
隱私權政策